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净化车间最主要之作用在于控制产品(如硅芯片等)所接触的大气的洁净度以及温湿度，使产品能在一个良好之环境空间中生产、制造，此空间我们称之为净化车间。
洁净车间的作用
无尘净化级别主要是根据每立方米空气中粒子直径大于划分标准的粒子数量来规定。也就是说所谓无尘并非100%没有一点灰尘，而是控制在一个非常微量的单位上。当然这个标准中符合灰尘标准的颗粒相对于我们常见的灰尘已经是小的微乎其微，但是对于光学构造而言，哪怕是一点点的灰尘都会产生非常大的负面影响，所以在光学构造产品的生产上，净化车间无尘是必然的要求。每立方米将小于0.3微米粒径的微尘数量控制在3500个以下，就达到了国际无尘标准的A级。目前应用在芯片级生产加工的无尘标准对于灰尘的要求高于A级，这样的高标主要被应用在一些等级较高芯片生产上。5μm及以下的微尘数量被严格控制在每立方米1000个以内，这也就是业内俗称的1K级别。
洁净车间工程的要求
1.良好的耐磨性能;
2.可以抵抗酸碱液和药液的侵蚀，且材料本身无污染;
3.防滑;
4.抗静电;
5.二次施工简便，地面可无接缝加工;
6.清洗、维护方便。
在GMP车间净化地面材料的选型中，除了满足其他要求以外，还需要注意的是地面的耐磨性，这也是基于减低地面发尘量的需要。