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工业电子超纯水设备设计方案
1.电子工业超纯水概述
半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、大规模、超大规模集成电路需用大量的纯水、高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高，线宽越窄，对水质的要求也越高。目前我国电子工业部把电子级水质技术分为五个行业等级，分别为18Mù.cm、15Mù.cm、10Mù.cm、2Mù.cm、0.5Mù.cm，以区分不同水质。
2.工业用纯水设备特点
电子工业超纯水设备通常由多介质过滤器，活性碳过滤器，钠离子软化器、精密过滤器等构成预处理系统、RO 反渗透主机系统、离子交换混床(EDI
电除盐系统)系统等构成主要设备系统。原水箱、中间水箱、RO
纯水水箱、超纯水水箱均设有液位控制系统、高低压水泵均设有高低压压力保护装置、在线水质检测控制仪表、电气采用PLC
可编程控制器，真正做到了无人值守，同时在工艺选材上采用推荐和客户要求相统一的方法，使该设备与其它同类产品相比较，具有更高的性价比和设备可靠性。
3.电子工业超纯水的应用领域
1、半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路成品、半成品用超纯水;
2、超纯材料和超纯化学试剂勾兑用超纯水;
3、实验室和中试车间用超纯水;
4、汽车、家电表面抛光处理;
5、光电子产品;
6、其他高科技精微产品;
工业纯水设备工艺流程说明：
1、 第一级预处理系统：采用石英砂多介质过滤器，主要目的是去除源水中含有的泥沙、铁锈、胶体物质、悬浮物等颗粒在20
m以上对人体有害的物质，系统可以自动(手动)进行反冲洗，正冲洗等一系列操作。
2、 第二级预处理系统：采用果壳活性碳过滤器，目的是为了去除水中的色素、异味、生化有机物、降低水的余氯值及农药污染和其他对人体有害的污染物。系统可以自动(手动)进行反冲洗，正冲洗等一系列操作。
3、 第三级预处理系统：采用阳树脂对水进行软化，主要是降低水的硬度，去除水中的钙、镁离子(形成水垢的主要成分)，可有效延长反渗透膜的使用寿命，并可进行智能化树脂再生。
4、 第四级预处理系统：采用5um 孔径精密过滤器，使水得到进一步的净化，使水的浊度和色度达到优化。保证RO
系统进水条件要求，保证设备的产水质量，延长设备的使用寿命。
5、 反渗透(超滤)设备主机：采用反渗透(超滤)技术进行深度脱盐处理(进口美国反渗透膜)去除钙、镁、铅、汞等对人体有害的重金属物质及其他杂质，降低水的硬度，脱盐率达99%以上，生产出符合国家标准的纯净水。
6、 微过滤装置：安装该装置主要是为防止微粒树脂颗粒从布水中滤出，造成二次水质污染，这主要是运用在对水质特别高的场合。
杀菌系统：采用臭氧发生器(或紫外线杀菌器)，减少细菌二次污染，灭菌率可达99%以上，同时臭氧溶于水形成富氧水，保证水的纯鲜。采用水气混合器使臭氧充分与水混合，达到最佳浓度比。