电子工业纯水设备工艺流程说明

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ltldljj 发表于 2013/7/9 9:41:19 818 查看 0 回复 [上一主题] [下一主题]

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电子行业工业纯水设备工艺流程

该工艺采用YRRO-ET系列电子工业超纯水设备，适用于计算机硬盘，集成电路芯片，半导体，显像管，液晶显示器，线路板等工艺用的纯水，超纯水。，采用世界上最先进的美国反渗透元件，压力容器，高压泵设备，配以先进而又合理的预处理和后级处理备，生产出符合电子生产标准的水。控制部份采用进口PLC控制，可实现自动起停，加药，及冲洗，自动监测各种运行参数，并可实现运行参数的存储和打印。

功能

    脱盐率高，运行压力低的进口超低卷式复合反渗透膜，产水水质优良，运行成本低廉，使用寿命长。
    高效率，低噪音，品质优越的进口高压泵，减少能耗，降低运行噪声。
    进口在线原水及产品水电导仪，PH表可随时监测水质情况。
    进口在线产品水，浓水流量计可随时监测产品水量及系统回收率。
    配置自动循环冲洗系统，以备膜污染后清洗之用。
    快冲阀定时冲洗膜表面，降低膜污染速度，延长使用寿命。
    降TOC紫外线装置可有效降低TOC90%。
    膜脱气装置可使脱气后水中溶解的氧DO小于5ppb。

运行参数

    单机出力：0.5M³/h-120M³/h
    脱盐率：反渗透系统98%
    操作压力：1Mpa-1.2Mpa
    回收率：60%-80%
    产品出水电阴率：16-18MΩ.cm

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