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光电光学行业清洗用超纯水设备原理简介
shuichulishebei 发表于 2013/7/20 16:52:40 1742 查看 0 回复 [上一主题] [下一主题]
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随着现代工业的高速发展，光电光学行业对于产品的质量也在不断提高，就清洗的水来说，为何不直接使用自来水，而还要花高价购买纯水设备呢，其实由于自来水或其它水源含一些杂质、离子、细菌之类的对光电光学行业非常严重的影响。
清洗是指清除工件表面上液体和固体的污染物，使工件表面达到一定的洁净程度。清洗过程是清洗介质、污染物、工件表面三者之间相互作用，是一种复杂的物理过程，清洗不仅与污染的性质、种类、型态以及粘附程度有关。与清洗介质的理化性质、清洗性能、工件的材质、表面状态有关、还与清洗的条件如温度、压力以及附加的超声振动、机械振动等因素有关。
传统的清洗方式有浸式清洗、喷气清洗、喷流清洗、刷洗、喷淋清洗、喷雾清洗、减压清洗及高压水射流清洗等，而超声波纯水清洗是目前国际社会公认的最先进的清洗方式。清洗需用纯水，如水中含有氯离子，电容器就会漏电。在晶体管、集成电路生产中，纯水主要用于清洗硅片，另有少量用于药液配制，硅片氧化的水汽源，部分设备的冷却水，配制电镀液等。集成电路的产品质量及生产成品率关系很大。
水中的碱金属(K、Na等)会使绝缘膜耐压不良，重金属(Au、Ag、Cu等)会使PN结耐压降低，Ⅲ族元素(B、Al、Ga等)会使N型半导体特性恶化，V族元素(P、As、Sb等)会使P型半导体特性恶化，水中细菌高温碳化后的磷(约占灰分的20-50%)会使P型硅片上的局部区域变化为N型硅而导致器件性能变坏，水中的颗粒(包括细菌)如吸咐在硅片表面，就会引起电路短路或特性变差。在电子管生产中，电子管阴极涂甫碳酸盐，如其中混入杂质，就会影响电子的发射，进而影响电子管的放大性能及寿命，因此其配液要使用纯水，在显象管和阴极射线管生产中，其荧光屏内壁用喷涂法或沉淀法附着一层荧光物质，是锌或其他金属的硫化物组成的荧光粉颗粒并用硅酸钾粘合而成，其配制需用纯水，如纯水中含铜在8ppb以上，就会引起发光变色;含铁在50ppb以上就会使发光变色、变暗、闪光跳跃;含其它有机物胶体、微粒、细菌等，就会降低荧光层强度及其与玻壳的粘附力，并会造成气泡、条迹、漏光点等废次品。在黑白显象管荧光屏生产的12个工序中，玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗等5个工序需使用纯水，每生产一个晶体管需用纯水80kg。液晶显示器的屏面需有纯水清洗和用纯水配液，如纯水中存在着金属离子、微生物、微粒等杂质，就会使液晶显示电路发生故障，影响液晶屏质量，导致废、次品。
随着纯水、超纯水设备在光电光学领域中的重要作用日益突出，纯水水质已成为影响光电光学器件产品质量、生产成品率及生产成本的重要因素之一，水质要求也越来越高。在生产中，高纯水主要用作纯水清洗和纯水配液，不同的工艺生产中纯水的用途及对水质的要求也不同。