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二氧化硅膜料-二氧化硅薄膜应用领域及特性

jsats0523  发表于 2018/12/13 9:49:29      1861 查看 0 回复  [上一主题]  [下一主题]

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二氧化硅膜料-二氧化硅薄膜应用领域及特性

 

SiO2薄膜具有良好的硬度、光学、介电性质及耐磨、抗蚀、机械等特性,在光学、微电子等领域有着广泛的应用前景

 

SiO2薄膜已经是一种普通应用于各个领域的重要膜层(增透膜、多层膜、保护膜、滤光片…等)。在光学薄膜滤光片中,SiO2 薄膜是很好的一种单层抗反射膜,更是最常用的一种低折射率膜层,用來镀制多层光学薄膜滤光片;在镀膜工艺中,作为金属或者其他材料的表面抗刮和保护层;在半导体技术方面,常用来当作绝缘层的一种材料。

 

SiO2薄膜其穿透区涵盖0.15μm 至 8μm,具有很小的吸收损耗;和多数不同材料的基板拥有良好的附著性,表面也具有良好的耐刮性;结构稳定,不易与其他材料发生反应,产生变质,具有耐酸性、抗腐蚀的优点。

 

 

爱特斯光学2004年建立了硅氧化物的生产线,包括二氧化硅。从小颗粒状、柱状二氧化硅,到大切片二氧化硅,种类齐全,最新的规格包括二氧化硅环。客户可按提供具体尺寸、大小定制二氧化硅。


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