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含氰废水处理的PH和ORP控制与监测
介绍
有三种典型的电镀处理会产生废水： stripping, 清洗（cleaning）, 和电镀( plating)。Stripping槽中包含酸性溶液，包括硫酸，硝酸，盐酸或氢氟酸等。这些酸用来去除金属表面的污垢和氧化沉积层，以确保金属表面在电镀之前有理想的状态。清洗槽中包含有机溶剂（用来去除油或油脂）和加湿试剂。 电镀槽包含被电镀的金属溶液。这通常是一些金属盐，如三价铬，氧化镉，或铜的氰化物。从这三个过程中产生的废水主要包括的污染物是氰化物，铬酸盐，酸和碱。这篇论文主要集中讨论氰化物废水的PH和ORP监测。（北京优恩特科贸有限公司010-67509305）
应用
含氰化物废水是极端有害的，必须在排放之前进行处理。
处理
含氰化物废水的处理过程通常为两步。第一步是使用氧化试剂，如氯或者次氯酸钠在碱性情况下（高PH值），将氰化物氧化为氰酸盐（氰酸盐的毒性要比氰化物毒性小的多）。
第二步，是添加更多的氯或者次氯酸钠，但是和第一步相比，是在低PH值情况下，将氰酸盐氧化为二氧化碳或和氮气。
第一步
下列化学方程表示了氰化物变为氰酸盐的过程：
NaCN + 2NaOH + Cl2 <---> NaCNO + H20
首先，通过添加强碱将 pH 调节并控制到10或更高。
注意: pH10或更高，必须保持，因为如果氰化物废水接触到酸，会释放出极端危险的氯化氰 (CNCI) 或氢氰酸 (HCN)气体。
提高 pH值以后, 通过增加氧化试剂，其 ORP值 (氧化还原电位)增加到大约 (+) 250 mV。当所有的氰化物被氧化为氰酸盐时，ORP监测可以看到突变 (典型是 50 mV) 。这些反应发生于 15 到30 分钟。
注意:绝对ORP值和PH改变是不同的过程。因此pH 控制就是必要的。同时实际的ORP值设定点必须根据实际的情况确定。
第二步
下列化学方程式表示了氰酸盐的氧化过程：
2NaCN0 + 4NaOH + 3Cl2 <---> 6NaCl + 2CO2 + N2 + 2H20
第二步的反应过程发生在较低的pH (8.5 to 9 pH)情况下。这种较低的 pH 主要是由于在第一步碱的消耗，代替NaOH，添加酸并不是典型的减少pH的方法。同时，更多的氧化物被添加，直到 ORP值增加到大约 (+) 300 mV。记住，此值依赖于这个过程的特性，并非固定。
仪表
对于典型的两步法氰化物处理系统，在下图中予以描述：(Figure 1)
建议准备两个 pH 和两个 ORP控制系统。 推荐使用平表面pH 和 ORP电极。可以减少清洗频率和节省更多的时间。所有的控制器必须有继电器控制输出，并且设定点可以调整和设定。推荐控制器有报警输出，以便警告操作者，当超出正常范围时。选择变送器连接PH和ORP电极，通过PLC控制也是一个好的选择。
对于氰化物分解处理系统，强烈推荐ORP传感器有金（相对于铂金）电极表面。两个重要的原因是：金电极会产生更大的毫伏电位差；并且金电极不会被废水中镉和锌毒害
• 四 pH/ORP 控制器 (你的选择)
• 两个pH 传感器(Model 970211)
• 两个ORP 传感器金电极 (Model 970466)
结论
由于每一个废水都是唯一的，推荐分析这个影响，以确保高效的废水氰化物分解。在废水中有其它有机物和金属，可能会产生副反应，可能需要更多的氧化试剂，更长的反应时间。
氰化物废水监测产品
浸入式pH电极（Submersible pH Sensors）型号S650CD:适用于含氰废水的PH监测，美国神瑞（sensorex）出品（http://www.sensor17.com/sensor17_Category_11285_1.html）
浸入式ORP电极（Submersibl ORP Sensors）型号S650CD-ORP:适用于含氰废水的ORP监测，美国神瑞（SENSOREX）出品：（http://www.sensor17.com/）
控制器MU2000：（http://www.sensor17.com/sensor17_Product_2599341.html）德国迈格出品
010-67509305
