“预计在未来的5年内，国内将有超过10家以上的晶圆厂扩产。”有业内人士透露，对于老牌的晶圆代工企业—台积电，国内晶圆厂客户则采取紧盯的设备采购战术策略。

据悉，国内客户计划采购台积电先进制程产线，如引进其新世代7/10纳米制程设备，推出类似台积电的高良率、快交期的优质服务（TSMC Like），以率先抢占市场份额。而台积电的旧世代设备，也是国内客户争取的对象。

该人士强调，这样战术策略，确保了国内客户在引起台积电新世代设备失败后，也能争取到旧世代设备的订单。

台积电新世代7/10纳米制程备受瞩目

鉴于国内半导体供应链市场过于依赖台积电，所以TSMC Like（台积电高良率、快交期的优质服务）以及扩展至设备采购、材料、设计服务和IP等领域，自然成为客户争相购入的对象。如果国内客户（设备供应商）能抢下台积电新世代7/10纳米制程订单，将有助于争取到更多设备采购客户的订单，未来的业绩报表也是相当可观的。

台积电掌门人张忠谋董事长表示，2016年下半年的半导体市场值得期待，目前对于7/10纳米线程的研发和装机也在有条不紊地进行中。对于颇受瞩目的7/10纳米线程，张董事长则透露，其先进程度超乎预期。与此同时，台积电也开始对晶圆厂生产自动化进行布局。

佳能、尼康、ASML参战

相对于台积电的一枝独秀，其他晶圆设备厂商也在暗地里摩拳擦掌，其中就有佳能（canon）的纳米压印（NIL）技术、尼康(Nikon)的i-Line与KrF等二种曝光设备以及艾斯摩尔(ASML)的12寸晶圆与双重曝光(Twinscan)设备。

佳能、尼康、艾斯摩尔ASML参战的背景除了台积电的一路领先之外，还有自身设备技术的落后。要知道，自1980年以来，尼康推出的曝光装置连续多年占领80%以上的市场份额（2004年ASML的双重曝光设备慢慢缩短竞争差距）；而佳能更是在试用ArF浸润装置技术后，专注于i-Line与KrF等二种曝光设备的旧技术上。

为了重新抢占市场，佳能和艾斯摩尔将冲洗投入到ArF浸润设备、极紫外光(EUV)技术，18寸晶圆上。尼康则改进了ArF浸润装置的18寸晶圆技术，加速纳米压印技术发展。2015年，佳能率先宣传成功掌握11纳米线路的纳米压印技术。

而这场无硝烟的战争，才刚刚开始。

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