2006-03-23
表一、ITRS对于组件操作电压的技术蓝图
| 2003 | 2004 | 2005 | 2006 | 2007 | 2008 | 2009 | 2010 | |
技术节点 |
| hp90 |
|
| hp65 |
|
| hp45 | |
操作电压(V) | 数字 | 1.0 | 1.0 | 0.95 | 0.9 | 0.85 | 0.8 | 0.75 | 0.7 |
模拟 | 3.3-1.8 | 2.5-1.8 | 2.5-1.8 | 2.5-1.8 | 2.5-1.8 | 2.5-1.8 | 2.5-1.8 | 1.8-1.2 | |
资料来源:ITRS 2004 Update(2005/01) ;台湾工研院IEK-ITIS计划(2006/01)
不过即使如此,降低操作电压对于模拟IC而言仍是一条极具挑战性的任务。由于噪声不会随着电压下降而减弱,因此模拟功能必须将操作电压保持在一定水准以提供干净模拟信号所需要的电压准位,如何在降低工作电压的同时仍能保持良好的信号噪声比,将是制程技术发展时所需克服的问题。
最后一项挑战则是如何将先进模拟功能成功地整合至以CMOS制程为主的数字芯片之内,以达成系统单芯片(SoC)的目标。不可讳言地,虽然现阶段模拟制程仍是各拥山头的局面,但CMOS制程挟着数字IC主流制程的地位,不论在技术发展进程、晶圆厂产能供应、设备及材料取得价格等方面,均较其它制程更具竞争优势,实是未来持续降低芯片成本的不二选择。故以长期趋势而言,在微处理器、内存、混讯电路和射频组件朝向所谓系统单芯片整合的趋势下,欲同时达成高度整合效果及低廉成本的目标,势必仍需采用CMOS技术。虽然模拟电路初期采用CMOS制程仍不免在效能和噪声方面有相当疑虑,故目前一些高性能、高频模拟组件仍采用BiCMOS或SiGe BiCMOS制程;但随着CMOS制程快速发展,相关解决方案如SOI(Silicon-On-Insulator)、应变硅(Srained Silicon)及新材料的相继出现,均使得CMOS组件的模拟/射频性能愈趋完善。
展望未来,当初以CMOS为基础所延伸出的特殊制程(如BiCMOS),预计将于2007年一统,重新回归CMOS制程本身(详见图一),成为未来发展SoC(System on a Chip;系统单芯片)的完整制程平台,此趋势值得模拟IC业者留意。
图一、模拟/混讯/射频组件制程技术蓝图一览
资料来源:ITRS 2004 Update (2005/01);台湾工研院IEK-ITIS计划(2006/01)
三、结论
观察整个模拟IC技术的走向,可发现CMOS制程的影响力逐渐增增强;尤其对于成本与体积敏感的消费性电子,未来借着CMOS制程来整合数字与模拟组件以进一步降低成本与体积将成为主流发展方向;是否能确实掌握CMOS制程的特性,将成为模拟IC设计业者未来产品竞争的优势之一,建议台湾业者应详加留意此趋势,与代工业者密切合作,建立相关技术能量。
评论1
楼主 2006/3/23 9:39:15