您的位置:控制工程论坛网论坛 » 石油化工社区 » 不同工艺制备的氟化镁材料对真空镀膜的影响

jsats0523

jsats0523   |   当前状态:在线

总积分:161  2020年可用积分:0

注册时间: 2016-08-26

最后登录时间: 2019-04-10

空间 发短消息加为好友

不同工艺制备的氟化镁材料对真空镀膜的影响

jsats0523  发表于 2019/2/12 11:19:16      5343 查看 0 回复  [上一主题]  [下一主题]

手机阅读

MgF2是应用最早的、最常用的、性能优良的光学镀膜材料。然而,由于其制备工艺过程不同所造成的材料内部组织结构上的差异,最终对真空镀膜工艺和薄膜光学性能(如折射率)会产生很大的影响

MgF2压片材料结构较为松散,内部组织中存在大量的气孔和未脱除的结晶水,冷压时排出了部分气孔,但由于没能从根本上消除气孔,并有少量结晶水存在,镀膜过程仍有放气、喷溅及成膜后折射率偏离现象。 

晶体MgF2材料,从材料处理工艺上采用了真空低温预处理、高温脱气等过程,最大限度地排除了产生放气、喷溅和发生化学反应,从而具备了组织均匀的良好内部特征,是真空镀膜的优良首选材料。

1995年,爱特斯光学开始氟化镁真空镀膜材料的生产,主要生产氟化镁晶体和氟化镁压片,产品质量稳定,热销于国内外市场。

 


1楼 0 0 回复

2016年积分排行

用户名积分